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번호 | 제목 | 조회 수 |
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공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] | 77244 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20470 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57374 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68905 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92954 |
26 | 석영이 사용되는 이유? [1] | 20060 |
25 |
전자파 누설에 관해서 질문드립니다.
[1] ![]() | 21126 |
24 | dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] | 26249 |
23 | matching box에 관한 질문 [1] | 29709 |
22 | Dry Etcher 내 reflect 현상 [2] | 22273 |
21 | Arcing [1] | 28680 |
20 | RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] | 24787 |
19 |
CCP형, 진공챔버 내에서의 플라즈마...
[1] ![]() | 20407 |
18 | scattering cross-section, rf grounding에 관한 질문입니다. [2] | 19233 |
17 | 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] | 26513 |
16 | MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [3] | 22586 |
15 | Ground에 대하여 | 39522 |
14 | Peak RF Voltage의 의미 | 22641 |
13 | electrode gap | 17968 |
12 | Electrode 의 역할에 대해서 궁금합니다. | 17366 |
11 | 반응기의 면적에 대한 질문 | 12817 |
10 | 플라즈마 분배에 관하여 정보를 얻고 싶습니다. | 13212 |
9 | CCP/ICP에서 자석의 역활에 대하여 | 19363 |
» | esc란? | 28114 |
7 | Virtual Matchng | 16860 |