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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68840
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44 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 745
43 ICP 후 변색 질문 738
42 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 738
41 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 735
40 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 713
39 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 695
38 Polymer Temp Etch [1] 693
37 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 679
36 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 653
35 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 637
34 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 634
33 RF Sputtering Target Issue [2] file 622
32 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 622
31 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 613
30 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 591
29 PECVD Uniformity [1] 569
28 Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] file 560
27 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 550
26 AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 503
25 magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] 474
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