공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[283]
| 77214 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20467 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57362 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68901 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92946 |
69 |
공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다.
[1] | 82 |
68 |
플라즈마 식각 커스핑 식각량
| 60 |
67 |
플라즈마 식각 시 notching 현상 관련
[1] | 232 |
66 |
자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문
[1] | 89 |
65 |
Etch Plasma 관련 문의 건..
[1] | 291 |
64 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 2
| 430 |
63 |
center to edge 문제를 극복하기 위한 방법
[1] | 851 |
62 |
RIE Gas 질문 하나 드려도될까요?
[1] | 344 |
61 |
RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요?
[1] | 312 |
60 |
remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다.
[1] | 676 |
59 |
GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문
[1] | 264 |
58 |
애칭 후 부산물의 양을 알고 싶습니다.
[1] | 418 |
57 |
[재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스
[1] | 686 |
56 |
메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘
[1] | 302 |
55 |
RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다.
[1] | 381 |
54 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다.
[1] | 642 |
53 |
Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유
[1] | 1099 |
52 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량
[1] | 379 |
51 |
Sticking coefficient 관련 질문입니다.
[1] | 1019 |
50 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] | 574 |