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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20229 |
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문
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158 |
skin depth에 대한 이해
[1] | 150 |
157 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문
[1] | 97 |
156 |
반사파에 의한 micro arc 질문
[2] | 95 |
155 |
ICP에서의 Self bias 효과
[1] | 151 |
154 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1] | 134 |
153 |
ICP에서 전자의 가속
[1] | 147 |
152 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여
[2] | 168 |
151 |
파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다
[2] | 168 |
150 |
RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다.
[1] | 81 |
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플라즈마 에너지가 온도를 높혀주는 역할
[1] | 322 |
148 |
ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유
[1] | 360 |
147 |
Remote plasma source의 주파수 400kHz 이유
[1] | 571 |
146 |
대기압 플라즈마 문의드립니다
[1] | 251 |
145 |
주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가
[1] | 693 |
144 |
N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문
[1] | 609 |
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반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
[1] | 691 |
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안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다.
[1] | 442 |
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챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성
[1] | 619 |
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PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
[1] | 1182 |