kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수

2009.11.17 16:06

김곤호 조회 수:68904 추천:217



안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [283] 77242
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20468
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57374
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68904
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92952
46 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8818
45 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1968
44 ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. file 16977
43 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5879
42 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7682
41 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7136
40 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6516
39 ICP 구성에서 PLASMA IGNITION시 문의 [1] 9912
38 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다..도와주십시오ㅠㅠ [1] 10049
37 ICP 플라즈마 매칭 문의 [2] 21216
36 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24793
35 [질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [1] 19849
34 HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생 23350
33 안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다. 22958
32 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [1] 47987
31 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25596
30 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24916
29 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24654
28 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27237
27 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41300
쓰기
태그

Boards

XE Login