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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
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25 Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [1] 522
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19 ICP 방식에서 RF Foward Power를 상향하면 ER이 빨라지는 이유 [1] 392
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12 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [1] file 200
11 ICP에서 전자의 가속 [1] 189
10 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [1] 154
9 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 143
8 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 122
7 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 118
6 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 118

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