kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수

2009.11.17 16:06

김곤호 조회 수:68836 추천:217



안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77061
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20379
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57290
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68836
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92838
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 105
27 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 130
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 205
25 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 737
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 597
23 plasma striation 관련 문의 [1] file 492
22 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1030
21 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5215
20 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 600
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3580
18 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 879
17 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2317
16 anode sheath 질문드립니다. [1] 1013
15 라디컬의 재결합 방지 [1] 813
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1490
13 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1001
12 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16673
11 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1340
10 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1082
9 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19792
쓰기
태그

Boards

XE Login