안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [279] 77063
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20381
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57291
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68837
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92840
721 LXcat Dataset에 따른 Plasma discharge 에 대한 질문입니다. [1] 157
720 플라즈마 공정 후, 친수성으로 변한 표면의 친수성 제거 [1] 429
719 Compressive한 Wafer에 대한 질문 [1] 242
718 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [1] 679
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 858
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1480
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 295
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 453
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 373
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 172
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 219
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 663
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 453
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 413
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 634
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 325
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1073
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 617
703 self bias [1] 548
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 864

Boards


XE Login