안녕하세요~ 반도체 장비 현업에 일하는 직장인입니다 ㅎㅎ

게시글을 읽어보고 평소 도움을 많이 받아왔습니다. 몇가지 궁금한 내용이 있어 질문글 남겨봅니다

현상을 말씀드리면 플라즈마 식각 장비에서 듀얼 레벨의 RF 펄싱을 사용하는 장비에서 매칭이 제대로 되지 않는 현상입니다.

프리퀀시로 튜닝하는 영역에선 특정 웨이퍼에서 프리퀀시가 적정값을 찾지못하고 헤메는 현상이 있습니다.

이에 장비상 저항계수 문턱값 (Freq tuning Gamma threshold) 이라는 설정값을 바꾸면 정상적으로 장비가 작동하는 것처럼 보입니다.

 

Q1. 저항계수 문턱값이라는 의미가 스미스차트에 어떤식으로 적용 될 수 있을까요?

Q2. 이 값을 감소할 경우 매칭이 더 원활하게 되는데, 저항계수에 대한 한계값을 줄이는것이 RF적으로 어떻게 해석 될 수 있을까요?

Q3. 주파수 튜닝 영역과 관계를 어떤식으로 해석 할 수 있을까요?

 

스미스차트에 대한 지식이 많이 없다보니 두서없이 적게되었습니다.

많은 조언 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [282] 77207
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20465
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57361
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68900
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92945
26 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 143
25 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [1] 139
24 새삼스럽지만 챔버 내에 전류의 정의를 여쭤보고싶습니다. [1] 133
23 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [1] 130
22 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [1] 122
21 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 118
20 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 118
19 플라즈마 설비에 대한 질문 110
18 RF 반사와 전기에서 쓰이는 무효전력 반사 차이점이 궁금합니다. [1] 102
» 스미스차트의 저항계수에 대한 질문드립니다 91
16 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 90
15 자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문 [1] 87
14 Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다. [1] 86
13 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 82
12 내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다. [1] 76
11 ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 72
10 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 67
9 플라즈마 식각 커스핑 식각량 60
8 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 58
7 DBD 방전 방식의 저온 플라즈마 관련해서 3가지 질문 드립니다. [1] 53

Boards


XE Login