Air나 N2를 활용한 로테이팅 젯 플라즈마로 Tool의 유기오염 제거를 평가 적용하고자 합니다.

해당 Tool은 오염 점착 방지를 위하여 실리콘 수지가 Amu(에이뮤코팅)되어 수um T.를 형성하고 있습니다.

실리콘 수지가 중합체일 것으로 추정되는데 Plasma가 해당 코팅에는 어떤 영향을 줄지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76878
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20274
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68752
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92703
717 ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다ICP BIPOLAR ESC 관련 이론과 Chuck Force 계산 질문드립니다 [1] file 828
716 Ashing 공정에 필요한 O2 plasma에 대해 궁금한 점이 있습니다. [1] 1435
715 메틸기의 플라즈마 에칭 반응 메커니즘 [1] 284
714 안녕하세요 CLEAN GAS 관련 질문이 있습니다. [1] 451
713 RIE 식각공정중 발생하는 가스를 예측할 수 있는 메카니즘에 대해 질문하고싶습니다. [1] 361
712 corona model에 대한 질문입니다. [1] 170
711 플라즈마 제균 탈취 가능 여부 [1] 215
710 plasma 공정 중 색변화 [1] 639
709 ISD OES파형 관련하여 질문드립니다. [1] 446
708 PEALD 장비에 관해서 문의드리고 싶습니다. [1] 408
707 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 623
706 E-field plasma simulation correlating with film growth profile [1] 322
705 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 1055
704 OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다. [1] 609
703 self bias [1] 544
702 Self bias 내용 질문입니다. [1] 848
701 정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 722
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [1] 625
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] 1200
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [1] 370

Boards


XE Login