안녕하세요. TBIDMW를 사용한 WC_x 박막에 관한 논문을 읽던 중 궁금한 점이 생겼습니다.

 

TBIDMW 소재 관련 공정 진행 후 남은 부산물에 관해 O2 Plasma를 사용한 PPS 시스템 사용 시 

 

아민 계열을 해리시키고 남은 메탈 소재에 대해서 O2 plasma로 부산물을 안전하게 처리가 되는지 궁급합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [276] 76868
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20273
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57199
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68751
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92693
697 ICP lower power 와 RF bias [1] 1461
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 584
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [1] 173
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [1] 889
693 기판표면 번개모양 불량발생 [1] 619
692 진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [1] file 615
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [1] 28963
690 plasma modeling 관련 질문 [1] 387
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [1] 736
» O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 744
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [1] 1142
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2362
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1094
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [1] 777
683 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 991
682 RF Sputtering Target Issue [2] file 612
681 OES 파장 관련하여 질문 드립니다. [1] 614
680 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1897
679 plasma striation 관련 문의 [1] file 485
678 Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. 555

Boards


XE Login