개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
2010.12.10 13:44
1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.
가. 대 상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)
5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [277] | 76879 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20274 |
» | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57199 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68754 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92706 |
677 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 632 |
676 | Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동 [1] | 557 |
675 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1187 |
674 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1218 |
673 | Plasma Arching [1] | 1074 |
672 | Polymer Temp Etch [1] | 677 |
671 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 1018 |
670 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 491 |
669 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 1416 |
668 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1287 |
667 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 453 |
666 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 814 |
665 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 893 |
664 | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 832 |
663 | CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] | 5096 |
662 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1259 |
661 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 698 |
660 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 612 |
659 | N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] | 1473 |
658 | 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] | 488 |