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공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [281] 77182
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20453
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57351
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68890
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92929
28 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [1] 114
27 반사파에 의한 micro arc 질문 [2] 139
26 CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여 [2] file 217
25 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 767
24 CCP RIE 플라즈마 밀도 [1] 604
23 plasma striation 관련 문의 [1] file 497
22 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 1035
21 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 5280
20 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 601
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3595
18 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 883
17 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 2324
16 anode sheath 질문드립니다. [1] 1024
15 라디컬의 재결합 방지 [1] 820
14 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1502
13 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 1007
12 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16678
11 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1361
10 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1086
9 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19795
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