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15 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6505
14 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5621
13 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4382
12 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3610
11 ESC Cooling gas 관련 [1] 3580
10 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2853
9 Si Wafer Broken [2] 2563
8 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 2141
7 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1882
6 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1618
5 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1461

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