공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[268]
| 76728 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20190 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57167 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68699 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 92278 |
789 |
플라즈마 설비에 대한 질문
| 13 |
788 |
RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문
[1] | 33 |
787 |
Non-maxwellian 전자 분포의 원인
[1] | 164 |
786 |
skin depth에 대한 이해
[1] | 125 |
785 |
Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문
[1] | 80 |
784 |
반사파에 의한 micro arc 질문
[2] | 85 |
783 |
ICP에서의 Self bias 효과
[1] | 128 |
782 |
CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다.
[1] | 111 |
781 |
sputtering 을 이용한 film depostion
[1] | 113 |
780 |
Ni DC 스퍼터 관련 질문있습니다.
[1] | 59 |
779 |
플라즈마 밀도와 라디칼
[1] | 207 |
778 |
Microwave & RF Plasma
[1] | 112 |
777 |
플라즈마 식각 시 notching 현상 관련
[1] | 178 |
776 |
ICP에서 전자의 가속
[1] | 137 |
775 |
내플라즈마 코팅의 절연손실에 따른 챔버 내부 분위기 영향 여부 질문드립니다.
[1] | 53 |
774 |
Edge ring의 역할 및 원리 질문
[1] | 213 |
773 |
자성 물질 Etching 시 Process Parameter 질문
[1] | 62 |
772 |
RF generator의 AMP 종류 질문입니다.
[1] | 100 |
771 |
CCP장비 discharge 전압 및 전류 측정 방법 과 matcher 문제 관하여
[2] | 158 |
770 |
파장길이와 동축 케이블 길이 관련 문의드립니다
[2] | 149 |