Sputtering [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching]

2011.12.07 17:12

coating revolution 조회 수:31346

안녕하세요 Sputter 담당을 맡고 있는 직원입니다.

 

궁금점에 대해 여쭈어 봅니다

 

일반 Sputter 장비에는 모두 아래의 공정 parameter들의 data가 남는데 아래 항목의 의미가 무엇인지 궁금합니다.

 

PM이나 Chamber 분위기가 바뀌면 아래의특성들이 변하는것을 확인했습니다.

 

일반적으로 Bias(Vpp) Power [V]는 강할수록 Target에 때리는 전자의 가속력이 빨라져 Depo률이 증가하는것을 알수 있습니다.

 

 

 

Forword Power [%]

 

Reflect Power [W]

 

Bias(Vpp) Power

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 80785
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21599
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70027
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95307
264 플라즈마 데미지에 관하여.. [Charge의 축적과 damage] [1] 6585
263 VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리] [1] 55327
262 수중 플라즈마에 대해 [수중 플라즈마의 화학 반응 현상] [1] 8885
261 [기초]CCP Type에서의 Self-Bias(-Vdc)+Vp(plasma potential)관련 질문입니다. [플라즈마 전위와 쉬스] [1] 12935
260 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [DBD와 플라즈마 방전 메커니즘] [1] 8231
259 플라즈마에 하나도 모르는 완전초보입니다.. 도와주십시오 ㅠㅠ [플라즈마의 진공과 가스 주입] [1] 10142
258 고온 플라즈마 관련 8113
257 안녕하세요 교수님. [2차 전자 방출 메커니즘] [1] 9199
256 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8642
255 플라즈마가 생기는 메커니즘에 대한 질문입니다. [플라즈마 형성 과정과 파센의 법칙] [1] 13511
254 MFP에 대해서.. [Collisional cross section] [1] 7921
253 안녕하세요, 질문드립니다. [플라즈마 토치와 환경처리] [2] 6625
252 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [RRC 연구센터 문의] [1] 7790
251 미국의 RF 관련 회사 문의드립니다. [플라즈마트 및 휘팅커 회사] [1] 10445
250 플라즈마 발생 억제 문의 [Induction field와 breakdown] [1] 8181
249 ICP dry etch 장비에서 skin depth가 클수록 좋다고 볼 수 있는 건가요? [ICP의 skin depth와 공정 균일도] [1] 24608
248 Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? 15940
247 Ar traction에 따른 Plasma 특성 질문입니다. [Chamber wall과 radical reaction] [1] 15921
246 remote plasma에 대해 설명좀 부탁드립니다. [Remote plasma의 Radical] [1] 22739
245 cross section 질문 [Cross section에서의 collision] [1] 19819
쓰기
태그

Boards

XE Login