CCP 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련

2020.01.02 18:46

베컴 조회 수:19875

안녕하십니까?


이전에 에쳐장비 관련 장비메이져 회사에서 근무한 경험이 있습니다.


그당시, 에쳐장비에서 HF/LF가 RF가 인가가 되는데,

그라운드 링이라는 하드웨어가 상부전극 주위 즉 Deposhield윗 공간에 존재를 하였습니다.


에쳐장비에서 RF관련 그라운드를 어떻게 잡는지가 궁금합니다.

(그라운드를 잡지않으면, 아킹이나 노이즈 등의 위험이 있다고 생각합니다.)


확인 및 답변 부탁드립니다.

새해 복 많이 받으시고, 행복한 한해 되십시오.

감사합니다.





이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 80785
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21599
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70027
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95307
109 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1670
108 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 16773
107 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2488
106 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2571
105 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 4978
104 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4086
103 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 527
102 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2574
101 remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 14634
100 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2114
99 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1528
98 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [DBD] [1] 1281
97 ECR 플라즈마에 대해서 질문드립니다. [ECR과 uniformity] [1] 2511
96 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17829
95 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1188
94 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [Particle 관리] [1] 929
» 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19875
92 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 1771
91 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [ESC와 matcher] [1] 12504
90 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization] [1] 2642
쓰기
태그

Boards

XE Login