CCP RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [RF 방전과 이온 에너지]

2007.05.28 11:47

최진수 조회 수:18933 추천:338

안녕하세요. 저는 진공업체에 종사합니다.
이번에 RF를 사용하여 Crystal시료를 세정한는 장치를 연구 중입니다.
(예전에 RF이용하여 장비를 제작하였습니다.)

질문1. RF를 하고나서 시료를 보면 보라색이나 분홍색으로 변합니다.
왜 색깔이 변하는지 알고 싶습니다.(진공도는 10mTorr)
그리고 색깔이 변하지 않게 하는 방법은?

질문2. RF를 하면 Crystal표면이 에칭이 되는 지?(RF Power는 200W)
(Crystal의 두꼐에 따라 주파수가 변합니다)
그리고 시료를 담는 마스크도(재질 SUS)도 에칭이 되는지?
에칭이 되지않게 하는 방법은?

질문 3. RF 시스템은 현재 구상하는 것은 RF전극인 양판에 시료를 양판 중간에 넣어 RF를 실시
이때 유의할점은 무엇인지 ?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 80783
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21599
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70027
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95306
29 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23332
28 CCP/ICP , E/H mode 23270
27 입력전력에 따른 플라즈마 밀도 변화 (ICP/CCP) [ICP와 CCP의 heating] 23196
26 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19875
» RF를 이용하여 Crystal 세정장치 [RF 방전과 이온 에너지] [1] 18933
24 capacitively/inductively coupled plasma [Heating mechanism과 coolant] 17863
23 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 16773
22 CCP의 electrod 재질 혼동 [PECVD와 화학물 코팅] 16568
21 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [유전체 격벽 방전] [1] 7749
20 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 6257
19 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [Breakdown 전기장, 아크 방전] [3] 3771
18 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [Paschen's Law, P-d 방전 곡선] [1] 2466
17 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1716
16 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1687
15 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1527
14 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [Self bias와 dummy 공정] [1] 1188
13 CCP Plasma 해석 관련 문의 [Diffusion] [1] file 1164
12 anode sheath 질문드립니다. [Sheath 형성 메커니즘] [1] 1154
11 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [Self bias] [1] 1136
10 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [TC gauge 동작 원리] [1] 983

Boards


XE Login