ICP Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어]

2024.06.11 03:24

매쳐 조회 수:142

안녕하세요 교수님

 

제목에서 말씀드린 것 처럼 Ion 입사각을 확인하고 싶은데 문제가 있습니다. Etch 설비라면 Profile을 통해 알 수 있겠으나, 제가 맡고 있는 설비는 CVD 설비 입니다. ICP TYPE에서 DEP 과 Etch 가 동시에 일어나 Gapfill 목적으로 사용되는 설비입니다. 그렇다보니 Etch 처럼 Profile에서 Ion 의 입사각도가 드러나지 않는데, 어떻게하면 확인해볼 수 있을지 조언 부탁드립니다. 확인하는 목적은 Outer 영역에 Ion flux 가 집중되는 것으로 보여 확인하기 위함입니다. 늘 감사드립니다. 

 

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 80874
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21619
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58424
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70042
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95346
33 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] 288
32 micro arc에 대해 질문드립니다. [DC glow 방전과 breakdown 전기장] [1] 167
» Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [식각 플라즈마의 가장자리 균일도 제어] [1] 142
30 skin depth에 대한 이해 [Stochastic heating 이해] [1] 341
29 ICP에서의 Self bias 효과 [DC offset voltage와 floating potential] [1] 435
28 CF4/Ar 을 활용한 Si/SiO2 에칭에 관한 질문입니다. [식각 교재 참고] [1] file 379
27 ICP에서 전자의 가속 [Plasma breakdown 이해] [1] 264
26 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1659
25 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1371
24 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [국부 전기장 형성 및 edge 세정] [1] 983
23 ICP 대기압 플라즈마 분석 [Collisional plasma, LTE 모델] [1] 821
22 RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계 [Standing wave effect] [1] 2598
21 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [Faraday shield] [1] 1767
20 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1592
19 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1671
18 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2488
17 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2571
16 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4086
15 ICP reflecot power [Insulator와 rf leak] [1] 1771
14 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [Step ionization, Dissociative ionization] [1] 2642
쓰기
태그

Boards

XE Login