Etch Plasma 식각 test 관련 문의 [플라즈마 데이터 처리]

2021.12.13 16:57

벅바 조회 수:4092

안녕하세요.

 

플라즈마 식각 중량변화 테스트를 O2가스와 NF3,AR(3:1) 비중으로 60분동안 200W전력 조건으로 

 

제품은 불소고무 O-RING 입니다.

 

할 수 있는곳이 있을까요?? 

 

도움 부탁드리겠습니다..

 

, , , , 이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 80785
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21599
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58404
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70027
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 95307
153 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [Plasma torch와 cyanide] [2] 763
152 RF Sputtering Target Issue [Sputtering] [2] file 767
151 [재질문]에칭에 필요한 플라즈마 가스 [플라즈마 식각기술] [1] 770
150 PECVD Uniformity [플라즈마 균일도 제어] [1] 781
149 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 787
148 ICP 후 변색 질문 794
147 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 816
146 Plasma 표면 개질에 대해 질문드립니다. [O2 플라즈마와 Ar 플라즈마] [1] 823
145 remote plasma를 이용한 SiO2 ethching 질문드립니다. [식각률 self limit과 쉬스 에너지 변화] [1] 832
144 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 839
143 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [단위 Chamber의 PM 이력] [1] 842
142 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 851
141 Polymer Temp Etch [이온 입사 에너지] [1] 870
140 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해보고 싶습니다. [플라즈마 가속 전자의 충돌 반응] [1] 933
139 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [세정 공정 개발] [1] 1004
138 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1018
137 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [CCP 방전 원리] [1] file 1041
136 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [CCP 균일도, CCP edge] [1] 1046
135 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1168
134 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching] [3] 1185
쓰기
태그

Boards

XE Login