안녕하세요. 반도체에 종사하는 엔지니어입니다.

플라즈마에 대한 기초지식이 없어 설비 Trace 하는데 어려움이 있어 도움 요청합니다.

질문

1.VPP가 어떤건지?

2.VDC가 어떤건지?

3.VPP 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

4.VPP 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

5.VDC 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

6.VDC 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?

7.플라즈마는 압력,TEMP에 대해서 어떻게 변하는지?

위 7개 항목에 대해서 알고 싶습니다.

참고. 반도체 Batch 장비 , ALD막 생성에 쓰이는 장비입니다.

정말 감사합니다.