CCP capacitively/inductively coupled plasma

2004.06.21 15:12

관리자 조회 수:17468 추천:254

capacitively/inductively coupled plasma

한가지 잘 못 이해하고 있는 것이 있습니다. 전극이 반응기 내외부에 있는 여부로 ICP/CCP 플라즈마를 구별하지 않습니다.
일반적으로 capacitively coupled plasma 는 전극 사이에 형성되는 전기장에 의해 전자가속이 일어나 에너지를 얻어 이온화에
의해 만들어진 플라즈마를 의미하며 Inductively coupled plasma는 말 그대로 안테나에 흐르는 전류에서 형성된 자기장이 시간이
따라서 변할 때 자기장 주변으로 형성되는 전기장으로 부터 전자가 가속 에너지를 얻고 이온화를 통해 만들어진 플라즈마를
의미하는 말로써 써야 합니다. 물론 일반적인 ICP 반응기에서 CCP현상에 의한 플라즈마 발생이 일어나기도 합니다.
약간의 혼돈은 여기서 생길 수 있습니다만 두 현상을 구분해서 이해하는 것이 좋습니다.
아울러 다음 항을 참고하기 바랍니다. (271/259/225/205/126/95)
냉각수로 power leak가 있을 수도 있습니다. 일반 가정용 물을 냉각수로 사용하는 것은 좋은 방법이 아닙니다. 적어도 증류수를 사용하도록 하는 편이 옳습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [101] 3648
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15343
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50578
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62996
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82133
669 플라즈마 관련 교육 [1] 16
668 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 18
667 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 35
666 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 40
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 90
664 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 113
663 RF 파워서플라이 매칭 문제 [1] 130
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 141
661 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 142
660 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 160
659 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 186
658 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 186
657 doping type에 따른 ER 차이 [1] 229
656 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 249
655 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 252
654 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 254
653 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 264
652 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 267
651 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 267
650 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 270

Boards


XE Login