Others plasma cleanning에 관하여....

2004.06.21 15:39

관리자 조회 수:20610 추천:230

질문 ::

안녕하세요.
여기에 자주 들러 정보를 많은것을 배우고 있읍니다.
evaporation증착설비를 운영하고 있는데,저진공에서 plasma cleanning이라는 공정을 거칩니다.질소개스를 사용합니다.
plasma cleanning을 하는데 있어 원리와 보다 완벽한 cleanning을 하기위한 도움이 될만한 사항을 얻고자 문의를 드립니다.
더운데 수고하시고,건강하세요.

답변 ::

플라즈마를 이용한 cleaning에는 두가지 방법이 쓰입니다.
하나는 물리적인 방법이며 다른 하나는 화학적인 방법입니다. 여기서 물리적인 방법은 sputtering 효과에 의해서
이뤄지는 cleaning이라 할 수 있으며 화학적인 방법은 화학반응 즉 etching 과 같은 효과에서 이뤄지는 것 입니다
따라서 쓰던 반응기내의 잔유 물질이 무엇인가에 따라서 사용하는 개스를 잘 선택할 필요가 있습니다.
예를 들어서 폴리머등의 잔유물에는 산소 플라즈마를 사용하곤 합니다.
물리적인 cleaning 방법에서 중요한 것은 벽으로 나가는 이온의 에너지 입니다. 이 에너지는 벽에 형성되는 쉬스
전위 차에 의해서 생기게 됩니다. 즉 그 값은 플라즈마 전위와 벽 전위 혹은 접지 전위와의 차이 값에 해당합니다.
이 값이 클 수록 에너지가 높은 이온이 벽으로 인가되고 이들이 벽에 남아있는 잔유물에 recoling 에너지를 주어서
벽으로 부터 떨어져 나오게 될 것 입니다. 물론 플라즈마의 밀도가 높을 수록 좋겠지요. 아울러
무거운 입자들이 유효합니다. 따라서 argon등의 개스가 선호되기도 합니다. 아울러 나머지 화학적인
성질이 매우 중요하게 됨을 고려하여 쓰시는 반응기에서 최적의 조건을 찾으시기
바랍니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2928
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 14133
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50059
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62373
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80762
660 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 119
659 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 131
658 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 167
657 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 169
656 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 183
655 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 188
654 doping type에 따른 ER 차이 [1] 202
653 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 206
652 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 214
651 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 236
650 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 238
649 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 239
648 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 245
647 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 246
646 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 255
645 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] file 263
644 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 268
643 Massbalance equation 에서 P(t) 유도과정 271
642 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 272
641 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 273

Boards


XE Login