안녕하세요, 에칭쪽은 처음 접해보게 된 연구자입니다. Wet 에칭 중에서도 HF 나 F2 의 SiO2 에칭에 관심이 생겨 알아보고 있습니다. 

시간별/온도별 pure HF 와 pure F2 가스의 fused silica glass (SiO2) 또는 quartz SiO2 표면의 에칭율 (etch rate) 자료를 찾아보고 있습니다. 근데 제가 구글 검색 능력이 떨어져서 그런지, 생각보다 별다른 자료가 많이 나오지 않습니다.   

제가 찾은건 

https://pubs.acs.org/doi/full/10.1021/ja993803z?src=recsys

https://www.seas.upenn.edu/~nanosop/documents/Etchratesformicromachiningprocessing.pdf

http://www.its.caltech.edu/~daw/papers/12-NW-preprint.pdf

이런 자료들을 찾기는 했는데, 여전히 순수 HF나 순수 F2 가스와 fused silica SiO2 그리고 quartz SiO2 표면의 온도별/시간별 에칭률이나 에칭반응계수를 찾지는 못했습니다. 

분명 오래된 논문들에 있을것 같은데 제가 검색어를 잘못 넣었는지 찾을수가 없네요. 혹시 wet etching 중 HF나 F2의 fused / quartz silica 에칭률 자료가 있으면 추천 부탁드립니다. 

감사합니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [101] 3648
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15343
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50578
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 62996
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82133
669 플라즈마 관련 교육 [1] 16
668 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 18
667 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 35
666 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 40
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 90
664 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 113
663 RF 파워서플라이 매칭 문제 [1] 130
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 141
661 구 대칭으로 편광된 전자기파를 조사할 때에 대한 질문입니다. [1] file 142
660 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 160
659 공정 진행 중 의도적인 섭동 효과에 대해서 질문 드립니다. [1] 186
658 안녕하세요 DBD 플라즈마 소독 관련질문입니다. [1] 186
657 doping type에 따른 ER 차이 [1] 229
656 타겟 임피던스 값과 균일도 문제 [1] 249
655 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 252
654 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 254
653 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 264
652 Fluoride 스퍼터링 시 안전과 관련되어 질문 [1] 267
651 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 267
650 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 270

Boards


XE Login