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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[265]
| 76539 |
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 20076 |
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 57115 |
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 68613 |
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
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743 |
RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요?
[1] | 287 |
742 |
안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다.
[1] | 495 |
741 |
CURRENT PATH로 인한 아킹
[1] | 379 |
740 |
플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문
[1] | 453 |
739 |
주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가
[1] | 638 |
738 |
remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다.
[1] | 440 |
737 |
ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다.
[1] | 394 |
736 |
RF sputter 증착 문제 질문드립니다.
[1] | 299 |
735 |
plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다
[1] | 331 |
734 |
Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계
[1] | 525 |
733 |
RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다.
[1] | 231 |
732 |
반사파와 유,무효전력 관련 질문
[2] | 337 |
731 |
GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문
[1] | 209 |
730 |
N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문
[1] | 577 |
729 |
Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다.
[1] | 441 |
728 |
PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다.
[1] | 312 |
727 |
Sheath와 Plasma Bulk에 걸리는 전압 관련 문의
[1] | 420 |
726 |
chamber에 인가 되는 forward power 관련 문의
[1] | 337 |
725 |
반도체 METAL ETCH 시 CH4 GAS의 역할.
[1] | 649 |
724 |
Plasma Reflect를 관리하는 방법이 있을까요?
[1] | 550 |