번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2558
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 13515
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49689
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61628
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80242
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 106
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 201
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 76
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 184
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [2] 140
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [2] 234
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 158
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 243
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [2] 416
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 244
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 190
649 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 253
648 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 189
647 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 242
646 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 536
645 plasma 형성 관계 [1] 384
644 RF matcher와 particle 관계 [2] 540
643 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 1973
642 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 3754
641 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 270

Boards


XE Login