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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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706 |
Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유
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705 |
OES를 통한 공정 개선 사례가 있는지 궁금합니다.
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704 |
self bias
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703 |
Self bias 내용 질문입니다.
[1] | 74 |
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702 |
정전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다.
[1] | 91 |
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701 |
챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성
[1] | 105 |
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700 |
PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활
[1] | 125 |
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699 |
텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량
[1] | 113 |
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698 |
ICP lower power 와 RF bias
[1] | 403 |
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697 |
CCP RIE 플라즈마 밀도
[1] | 211 |
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696 |
실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무
[1] | 66 |
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695 |
RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교
[1] | 280 |
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694 |
기판표면 번개모양 불량발생
[1] | 201 |
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693 |
진공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문
[1]  | 287 |
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692 |
OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다.
[1] | 17212 |
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691 |
plasma modeling 관련 질문
[1] | 236 |
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690 |
플라즈마 진단 OES 관련 질문
[1] | 364 |
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689 |
O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다.
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688 |
플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다
[1] | 838 |
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687 |
Ta deposition시 DC Source Sputtreing
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