Others VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리]
2012.09.07 03:25
안녕하세요. 반도체에 종사하는 엔지니어입니다.
플라즈마에 대한 기초지식이 없어 설비 Trace 하는데 어려움이 있어 도움 요청합니다.
질문
1.VPP가 어떤건지?
2.VDC가 어떤건지?
3.VPP 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
4.VPP 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
5.VDC 정상 Trend에서 High Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
6.VDC 정상 Trend에서 Low Hunting 발생한 경우 왜 그런지?
7.플라즈마는 압력,TEMP에 대해서 어떻게 변하는지?
위 7개 항목에 대해서 알고 싶습니다.
참고. 반도체 Batch 장비 , ALD막 생성에 쓰이는 장비입니다.
정말 감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] | 82253 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21897 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 58682 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 70305 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 96079 |
820 | SCCM 단위에 대하여 궁금합니다. [Flow rate] | 146536 |
819 | DC 글로우 방전 원의 원리 좀 갈켜주세여.. | 134522 |
818 | RF 플라즈마와 Microwave 플라즈마의 차이 [해리와 세정 활성종] | 96773 |
817 | Plasma source type [CCP, ICP, TCP] | 79882 |
816 | Silent Discharge | 64601 |
» | VPP,VDC 어떤 FACTOR인지 알고 싶습니다. [Vpp, Vdc와 플라즈마 발생 원리] [1] | 55354 |
814 | 안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type] [1] | 48278 |
813 | 플라즈마내에서의 아킹 [Charge와 plasma potential] | 43809 |
812 | 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. | 41429 |
811 | 대기압 플라즈마 | 40781 |
810 | Ground에 대하여 | 39734 |
809 | RF frequency와 RF power 구분 | 39215 |
808 | Self Bias [Self bias와 플라즈마 특성 인자] | 36456 |
807 | Ar plasma와 O2 plasma 차이??(Matching Network) [Matching Q factor와 negative ion] | 36170 |
806 | ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] | 35096 |
805 | PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정] [1] | 32785 |