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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [플라즈마 방전 및 이온 가속]
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483 |
matcher, ESC, Heater에 대해 질문 드립니다. [회로 모델 및 부품 impedance]
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482 |
HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요?
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481 |
교수님 질문이 있습니다. [Child-Langmuir sheath]
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wafer bias [Self bias]
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Group Delay 문의드립니다. [마이크로파]
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Plasma에 의한 분해 및 치환 반응(질문) [Powder]
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477 |
RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [라디컬 측정 방법 및 세정 기술]
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리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ
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안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [N2 플라즈마]
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PEALD관련 질문 [Passivation 막 증착 과정]
[1] | 32796 |
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N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [충돌 반응 및 전력 전달 모델]
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dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [표면 하전 특성 및 chucking 불안정성]
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Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다. [플라즈마 식각기술, Plasma Etching]
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기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다.
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ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [Self bias 및 플라즈마 방전 매커니즘]
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468 |
VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [VPS]
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467 |
임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [플라즈마 dielectric property]
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쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [Ambipolar diffusion]
[1] | 1265 |
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465 |
Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [전자 소실 및 플라즈마 전위]
[3] | 1506 |
