질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:94284 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [311] 79039
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21201
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58015
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69566
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94284
702 Self bias 내용 질문입니다. [쉬스와 표면 전위] [1] 974
701 경전척의 chucking voltage 범위가 궁금합니다. [1] 858
700 챔버 시즈닝에 대한 플라즈마의 영향성 [플라즈마 생성, Plasma collision reaction] [1] 676
699 PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [Ar plasma, Ar metastable] [1] 1422
698 텅스텐 Plasma Cleaning 효율 불량 [Plasma Cleaning] [1] 432
697 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1620
696 CCP RIE 플라즈마 밀도 [Global model, Plasma generation, Ionization collision] [1] 662
695 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 217
694 RF 전압인가 시 LF와 HF 에서의 Sheath 비교 [Plasma sheath, Stochastic heating] [1] 1054
693 기판표면 번개모양 불량발생 [Plasma charging] [1] 687
692 전공수준에 따른 RF plasma 영향 관련 질문 [Ion beam source] [1] file 676
691 OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] 29194
690 plasma modeling 관련 질문 [Balance equation] [1] 428
689 플라즈마 진단 OES 관련 질문 [OES와 atomic spectroscopy] [1] 844
688 O2 플라즈마 사용에 대한 질문을 드립니다. 805
687 플라즈마 주파수 예측관련 질문드립니다 [Global model과 Balance equation] [1] 1198
686 Ta deposition시 DC Source Sputtreing 2392
685 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [Plasma density와 Balance equation] [1] 1320
684 OES를 이용한 Gas Species 정량적 분석 방법 [수소, Ar 단원자 진단] [1] 900
683 sticking coefficient 관련 질문입니다. [HAR, LF bias] [1] 1131

Boards


XE Login