Matcher RF 파워서플라이 매칭 문제
2022.07.21 23:00
안녕하세요? 현재 연구실에서 반응성 스퍼터링으로 TiO2 박막을 실험하고 있습니다.
연구실에서 사용하는 RF스퍼터 장비에는 오토매처가 있어 파워 인가 시 자동으로 임피던스 매칭을 수행합니다.
매처는 일반적인 장비로써 Load/Tune capacitor가 내장되어있습니다.
현재 RF 파워의 매칭 시간이 너무 긴 문제가 있습니다.
매칭이야 조건을 찾는 과정이니 시간이 걸릴 수 있겠지만, 매칭 시간만 1시간이 넘게 걸리고, 무엇보다 공정 조건이 같은데도 매칭이 이루어지는데 점점 오래 걸리고 있습니다.
반응 가스는 고순도 O2를 사용 중에 있으며, 순도는 용접용이어서 낮지 않습니다.
만일 매칭에 방해가 되는 요인이 있다면 어떤 요인이 있는 지 알고 싶습니다.
감사합니다.
댓글 0
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] | 75026 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18868 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56342 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66861 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88345 |
679 |
plasma striation 관련 문의
[1] ![]() | 318 |
678 | Chamber impedance 범위에 대해 질문드립니다. | 394 |
677 | 주파수 변화와 Plasma 온도 연관성 [1] | 408 |
676 |
Chamber 내 Pressure와 Fluid Density, Residence Time 거동
[1] ![]() | 318 |
675 |
RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계
[1] ![]() | 724 |
674 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 585 |
673 | Plasma Arching [1] | 671 |
672 | Polymer Temp Etch [1] | 377 |
671 |
CCP Plasma 해석 관련 문의
[1] ![]() | 650 |
670 | AlCu Dry Etch시 Dust 잔존문제 | 257 |
669 | 플라즈마 관련 교육 [1] | 969 |
668 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 573 |
667 | 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] | 315 |
666 | 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] | 756 |
665 | Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] | 610 |
» | RF 파워서플라이 매칭 문제 | 585 |
663 |
CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.
[1] ![]() | 2233 |
662 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 912 |
661 | 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] | 471 |
660 | 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] | 509 |