안녕하세요 현재 반도체 기업에서 종사하고 있는 엔지니어입니다.

Plannar ICP Plasma를 이용한 Etch chamber를 운용중인데 Particle 제어에 대한 연구를 하다보니 ICP Etch chamber에서 Dome(Ceramic cover)의 역할에 대한 궁금증이 생깁니다.

 

먼저저희가 운용하고 있는 chamber의 Ceramic cover의 구조는 Dome형을 가지고 있습니다.

Particle이 생기는 1차적인 원인을 Ceramic cover에서 떨어지는 낙성으로 추측을 하고 있는데 여기서 Material, 구조 관점에서 궁금증이 생깁니다.

 

1. ICP plamsa에서 Ceramic 재질의 Cover를 사용해야하는 이유 

2. S/H와 같이 평형한 구조가 아닌 Dome 형의 구조를 가졌을 때 가지는 장점이 있는지 (ex ICP Plasma를 구현할 때 Chamber의 길이 에 따라 Wafer에 가해지는 Ar 플라즈마 입자의 직진성 향상에 유리한 점이 있다던지...)

 

도움 부탁드립니다.

감사합니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [299] 77619
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20661
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57604
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69094
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 93298
816 ICP에서 biasing 질문 [RF sheath와 self bias] [1] update 19
815 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [1] update 12
814 RF sputtering reflect power에 대해서 질문 남깁니다. 18
813 ExB drift 식 유도 과정에서의 질문 [1] 21
812 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [1] 56
811 플라즈마 식각 공정 중 폴리머의 거동 [1] 1231
810 플라즈마 사이즈 측정 방법 [1] 108
809 Forward와 Reflect가 계속해서 걸립니다. [2] file 144
808 micro arc에 대해 질문드립니다. [1] 67
807 Wafer Capacitance 성분과 Vdc 관계 문의드립니다. [1] 114
806 Surface wave plasma 조건에 관해 질문드립니다. [1] 53
805 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [1] 118
804 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [1] 129
803 Ion 입사각을 확인하는 방법 문의드립니다 [1] 73
» ICP Plasma etch chamber 구조가 궁금합니다. [1] 155
801 HE LEAK 과 접촉저항사이 관계 [1] 162
800 PECVD 실험을 하려고 하는데 조언 구합니다. 117
799 스터퍼링시 기판 온도 계산에 대해 질문드립니다! [1] 81
798 공정 DATA TARGET 간 난제가 있어 문의드립니다. [1] 134
797 Si 와 SiO의 선택적 식각 관련 문의입니다. 173

Boards


XE Login