안녕하세요.

저는 RF를 전공하고, 현재 RF 소자 시뮬레이션 관련 일을 하고 있는 강경석이라고 합니다.


기존에는 안테나나 필터와 같은 RF수동소자에 대해서 해석을 주로 진행하였습니다만, 반도체 공정 장비에 대한 해석업무를 하게 되었습니다. 

그래서 공정 장비에 RF 해석을 어떤 부분에서 접목 가능할까부터 시작하였고, 스터디 결과, 플라즈마를 이용한 ICP, CCP, Ion implantation에 접목 시킬 수 있겠다 라는 결론이 도출 된 상태입니다.

그래서 ICP, CCP, Ion implant 관련하여 스터디 하는 도중에 막히는 부분이 생겨서 이렇게 질문드립니다.


제가 공부한 바로는 플라즈마를 발생시킬 때 가스에 인가하는 에너지 타입에 따라서 ICP, CCP로 나뉜다고 이해 하였습니다.

그리고 Ion implant는 Ion을 주입하여서 반도체 wafer에 어떤 극성을 갖게 만드는 것이라고 이해하였구요,


여기서 질문은 그럼 ICP, CCP 장치에서 발생시킨 플라즈마를 가지고 Ion Implant 공정에 활용 하는 것인가요?

1. ICP. CCP에서 발생시킨 플라즈마에서 양이온만을 골라내서 Ion implant 공정에 활용하는것인지 궁금합니다.

2. 양이온만 골라내고, 나머지 전자는 어떻게 처리하는지 궁금합니다.


제가 전공이 이쪽이 아니라서, 질문이 너무 애매모호 합니다..ㅠ 질문도 많은것을 알고 있어야 정확하게 질문할 수 있는데, 제가 배경지식이 너무 부족하다보니 질문이 애매하네요, 바쁘시겠지만 답변 부탁드립니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 2214
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2565
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 542
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3308
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16645
558 알고싶습니다 [1] 1438
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2285
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 923
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 745
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2805
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1437
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2451
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 672
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1587
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 4361
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1107
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10370
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2386
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 878
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3671

Boards


XE Login