개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:57146 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76647
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20146
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57146
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68668
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92120
747 center to edge 문제를 극복하기 위한 방법 [1] 729
746 RF Frequency 가변과 FORWARD POWER의 상관관계 [2] 710
745 안녕하세요, RPS나 DEPOSITION간에 발생하는 ELECTRON TEMPERATURE가 궁금합니다. [1] 367
744 RIE Gas 질문 하나 드려도될까요? [1] 313
743 RIE 설비 관련 질문 좀 드려도 될까요? [1] 289
742 안녕하세요. 자문을 구할 수 있을지 궁금합니다. [1] file 499
741 CURRENT PATH로 인한 아킹 [1] file 387
740 플라즈마 전원 공급장치에 대한 질문 [1] 470
739 주파수 증가시 플라즈마 밀도 증가 [1] 669
738 remote plasma 를 이용한 SiO2 etching 질문드립니다. [1] 474
737 ICP Dry Etch 설비 DC bias Hunting 관련 질문드립니다. [1] 407
736 RF sputter 증착 문제 질문드립니다. [1] file 309
735 plasma off시 일어나는 현상 문의드립니다 [1] 339
734 Arcing 과 Self-DC Bias Voltage 상관 관계 [1] 549
733 RF 스퍼터 관련 질문이 있습니다. [1] 247
732 반사파와 유,무효전력 관련 질문 [2] 344
731 GWP(Global warming potential)에 따른 Etch gas 변화에 대한 질문 [1] 211
730 N2 GAS를 이용한 Plasma에 대한 질문 [1] 593
729 Plasma 표면개질에 대해 질문드립니다. [1] 489
728 PECVD 고온 공정에서 증착 막으로의 열전달 관련 문의드립니다. [1] 322

Boards


XE Login