-> 실명으로 작성했다고 생각했는데 닉네임으로 되어있어서 죄송합니다.ㅜㅜ 닉네임 실명으로 수정하였습니다.

 

안녕하세요 

 

현재 원기둥 모양의 얇은 텅스텐을 강염기 KOH로 전기에칭을 진행하고 있습니다.

 

Etching이 완료된 후 SEM으로 이미지를 보면 어떤물질인지 정확히 알 수 없는 수십나노 size의 Contamination들이 표면에

 

붙어있습니다. 

 

현재 플라즈마 장비로 이런 Contamination을 제거하기 위한 방법들을 찾아보고 있는 와중에 일전에도 도움주셔서 이렇게 글을

 

남겼습니다.

 

저희가 사용하는 플라즈마 장비는 진공플라즈마가 아닌 대기압플라즈마를 사용하며, 워낙 얇은 텅스텐을 사용하다보니

 

진공플라즈마에서 피뢰침처럼 Ark 방전이 발생하여 일부로 시료의 damage가 덜한 대기압플라즈마로 Remote 방식을 쓰고 있습니다.

 

현재 대기압플라즈마로 Native oxide제거(연구중), 정전기 제거(주사용)로 사용하고 있는데 추가적으로 Contamination 제거도 진행

 

하려고 합니다.

 

이러한 상황에서 좋은 접근방법이 있을지 여쭤보고 싶습니다.

 

바쁘신 와중에 글 읽어주셔서 감사합니다.

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
743 플라즈마 온도 27736
742 DBD란 27695
741 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 27589
740 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27205
739 이온과 라디칼의 농도 file 26953
738 self bias (rf 전압 강하) 26676
737 공정챔버에서의 아킹 및 노이즈 문제... [2] 26455
736 dechucking시 Discharge 불량으로 Glass 깨짐 [3] 26127
735 충돌단면적에 관하여 [2] 26113
734 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 26028
733 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25579
732 PECVD 매칭시 Reflect Power 증가 [2] 24979
731 스퍼터링에서 DC bias의 감소 원인이 궁금합니다.. 24850
730 Reflrectance power가 너무 큽니다. [1] 24830
729 RF 플라즈마 챔버 내부에서 모션 구동 [1] 24763
728 ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [1] 24735
727 H2/O2 플라즈마에 대해서 질문드립니다. 꼭 답변점... [1] 24636
726 plasma와 arc의 차이는? 24541
725 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24529
724 플라즈마가 불안정한대요.. 24508

Boards


XE Login