|
공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[313]
| 79245 |
|
공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
| 21262 |
|
공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
| 58064 |
|
공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
| 69622 |
|
공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
[3]
| 94410 |
|
240 |
RF Power에 따라 전자온도가 증가하는 경우에 대하여 궁금합니다. [Power와 Gas ionization]
[1] | 17939 |
|
239 |
ICP 플라즈마 매칭 문의 [Matching과 breakdown]
[2] | 21300 |
|
238 |
ICP Source에서 RF Source Power에 따른 위상차와 임피던스 변화 문의 [ICP Matching과 Circuit model]
[1] | 24856 |
|
237 |
[질문] Plasma density 측정 방법 [Plasma property와 sputtering]
[1] | 22775 |
|
236 |
[질문] 석영 parts로인한 특성 이상 [Plasma 대면재료와 공정법]
[1] | 19897 |
|
235 |
상압 플라즈마 방전에 관한 문의 [Electric field와 breakdown]
[1] | 20360 |
|
234 |
RF Plasma(PECVD) 관련 질문드립니다.
| 31765 |
|
233 |
[질문] ICP plasma 를 이용하여 증착에 사용하고 있는데요. [Sheath model과 bias]
[3] | 24568 |
|
232 |
HVDC Current '0'으로 떨어지고, RF Bias Reflect (RF matching이 깨지는 현상) 발생
| 23396 |
|
231 |
안녕하세요. O2 Plasma 관련 질문좀 드리겠습니다.
| 23003 |
|
230 |
대기압 플라즈마
| 40765 |
|
229 |
반도체 관련 질문입니다.
| 28606 |
|
228 |
안녕하세요. RF Matching에 관한 질문입니다. [Matching과 L-type]
[1] | 48215 |
|
227 |
Sputter 시에 Gas Reaction 에 대해 문의 드립니다.
| 20363 |
|
226 |
플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [수중방전의 heating source]
[1] | 16108 |
|
225 |
H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다.
[2] | 19521 |
|
224 |
[re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다.
 | 30272 |
