안녕하세요. 삼성전자 반도체 메모리 8/9라인 CVD공정에 배치받은 신입사원 허원석이라고 합니다.
한가지 여쭤 보고 싶은 점이 있어 질문을 드리게 되었습니다.

RF Generator를 쓰는 설비에서 ARC, HT-SIN 등의 공정은 RF reflect power가 일정하게 나오는데 비해 유독 ACL공정을 하는 설비에서만 RF reflect power가 일정하지 않은 이유가 무엇인지 궁금합니다.
주로 RF reflect power가 점차 상승하거나 때로는 하락할 때도 있습니다.
같은 Recipe에서도 RF reflect power 파형이 다르게 나타나는 것을 보면 Recipe문제는 아닌 것 같습니다...
(ACL 공정의 RF reflect power 파형 그래프 첨부하겠습니다.)

또한 이런 이유로 인해 Heater등의 Part에서 불량이 더 나는 것은 아닌지 알고 싶습니다.
가르침을 주시면 감사하겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82467
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21934
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58720
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70345
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96208
224 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. file 30296
223 [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문 입니다. 17252
222 ECR plasma 장비관련 질문입니다. [ECR과 enhanced process] [2] 35098
221 질문 있습니다. [Plasma breakdwon과 plasma particle] [1] 18441
220 pulse plasma 측정을 위한 Langmuir probe 사용 방법 관련 [Pulse plasma와 trigger-in] [1] 22742
219 스퍼터 DC 파워의 High 임피던스가 무슨 의미인가요? 25649
218 플라즈마 진단법에 대하여 [플라즈마 진단과 Spectroscopy] [1] 20729
217 안녕하세요. GS플라텍 지성훈입니다. [Enthalpy probe] [1] 20353
216 UBM 스퍼터링 장비로… [UBM과 열팽창 및 coating] [1] 21010
215 Reflrectance power가 너무 큽니다. [RF matching과 breakdown] [1] 25078
214 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 24792
213 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] 27380
» 반도체 CVD 공정의 ACL공정에서 RF Reflect Power에 관하여 여쭤보고 싶습니다. file 41429
211 광플라즈마(Photoplasma)라는 것이 있는가요? 23557
210 석영이 사용되는 이유 [플라즈마 내식성과 불순물 제어] [1] 20200
209 surface wave plasma에 대해서 [Microwave와 electron temperature] [1] 18640
208 CCP 방식에 Vdc 모니터링 궁금점. 23339
207 전자파 누설에 관해서 질문드립니다. [Coaxial cable과 wave shield] [1] file 21232
206 N2 플라즈마 공정 시간에 따른 Etching rate의 변화 이유가 알고 싶어요 [Cooling과 Etch rate] [2] 23946
205 질문이 몇가지 있읍니다. [Lorentz force와 Magnetic cusp] [1] 19291

Boards


XE Login