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공지 |
[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
[316]
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공지 |
Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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공지 |
개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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공지 |
kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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공지 |
질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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CCP에서 Area effect(면적)? [Self bias와 sheath capacitance]
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102 |
Breakdown에 대해
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대기압플라즈마를 이용한 세정장치
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100 |
상압 플라즈마 관련 문의입니다. [열용량과 방전 전력에 따른 냉각 장치]
[1] | 21615 |
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F/S (Faraday Shield)
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manetically enhanced plasmas
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ccp-icp
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스퍼터링시 시편 두께와 박막두께 [박막의 하전량 변화]
[1] | 21821 |
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glass 기판 ICP 에서 Vdc 전압
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펄스바이어스 스퍼터링 답변
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플라즈마내의 전자 속도 [Self bias]
[1] | 22053 |
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플라즈마 온도 질문+충돌 단면적 [전자의 에너지에 따른 충돌반응]
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91 |
플라즈마 코팅 관하여 [PECVD와 화학물 코팅]
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플라즈마의 발생과 ICP
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Dry Etcher 내 reflect 현상 [Chuck 전압/전류 및 field breakdown]
[2] | 22373 |
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질문있습니다 교수님 [Deposition]
[1] | 22542 |
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Dry Etcher 에 대한 교재 [플라즈마 식각 기술]
[1] | 22652 |
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MATCHING NETWORK 에서 BACKWARD BIAS 가 생성되는 이유가 무엇 입니까? [Impedance matching과 반사파 형성]
[3] | 22668 |
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Peak RF Voltage의 의미
| 22718 |
