Others 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용

2004.06.19 16:42

관리자 조회 수:16118 추천:254

만일 플라즈마의 on/off 상태를 알 고자 함이면 일반적인 CCD 카메라를 이용해서
감시할 수 있을 것이며 특별할 상태의 빛 파장대를 관찰하고자 한다면 이 주파수에
맞는 lenz와 filter등을 이용한 CCD를 사용하여야 합니다. 혹은 corona streamer
등을 측정하고자 한다면 수 mirosec의 변화를 관찰할 수 있는 intensified CCD를
사용하게 됩니다. 이때는 CCD의 time resolution이 문제가 되니 이점을 잘 고려
하여야 할 것입니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [312] 79201
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21245
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58052
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69609
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94394
43 ICP dry etch 시 공정 문의 사항. [1] 232
42 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 232
41 Impedance I 값을 결정 짓는 요소 관련 질문 [Impedance matching 이해] [1] 230
40 플라즈마를 이용한 물속 세균 살균 질문드립니다. [Bactericidal 이해] [2] 229
39 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 226
38 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 224
37 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 223
36 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 210
35 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 210
34 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 205
33 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 205
32 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 204
31 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 204
30 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 202
29 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 201
28 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 199
27 Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 199
26 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 198
25 Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터] [1] 195
24 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 191

Boards


XE Login