Etch Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length]
2024.07.05 06:52
반도체 ETCH 관련 업무를 하고 있습니다.
Plasma를 공부하던중 Debye Length라는 개념을 알게 되었습니다.
"용량성 결합 방전에서 초점 링의 기하학 및 유전율 변화에 따른 웨이퍼 가장자리의 이온 운동학 "에서 보면 웨이퍼와 포커스 링 사이의 간격에서 ",
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [317] | 82793 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 21993 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 58774 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 70408 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 96363 |
44 | 플라즈마 챔버 의 임피던스 관련 [2] | 27381 |
43 | 플라즈마 상태와 RF MATCHING관계 문의 사항 [Matching과 particle] | 27807 |
42 | DBD란 | 27908 |
41 | 플라즈마 온도 [Density와 Temperature] | 27947 |
40 | 탐침법 | 28059 |
39 | sheath와 debye sheilding에 관하여 [전자와 이온의 흐름] | 28119 |
38 | esc란? | 28195 |
37 | 반도체 관련 질문입니다. | 28622 |
36 | 플라즈마와 자기장의 관계 | 28682 |
35 | Arcing [전하 축적에 의한 방전 개시] [1] | 28806 |
34 | 플라즈마를 이용한 오존 발생장치 [Ozone과 Plasma] | 29064 |
33 | 압력과 플라즈마 크기의 관계가 궁금합니다. [Mean free path] [1] | 29076 |
32 | OLED에서 SF6와 CF4를 사용하는 이유를 알고 싶습니다. [Etching] [1] | 29300 |
31 | 물질내에서 전하의 이동시간 | 29431 |
30 | 플라즈마의 정의 | 29599 |
29 | matching box에 관한 질문 [ICP Source 설계] [1] | 29847 |
28 | PECVD에서 플라즈마 demage가 발생 조건 [쉬스와 플라즈마 밀도에 의한 damage] | 29919 |
27 | 플라즈마 밀도 [Langmuir 탐침과 플라즈마의 밀도] | 30285 |
26 | [re] H2/O2 혼합 플라즈마에 관련 질문에 대한 답변 드립니다. | 30297 |
25 | [Sputter Forward,Reflect Power] [Sputter와 matching] [1] | 31370 |
Deybe Leangth 는 하전 입사 구름 속에서 전기장의 느끼는 공간의 정의라 생각하시면 됩니다. 따라서 플라즈마 내의 전기적 영향을 다룰 때 이 값은 플라즈마 특성 길이를 대표하는 기준 값이 됩니다. 단, 절대값은 아님을 명심하시고, 문제 해석에 활용하시면 좋습니다. Debey length는 플라즈마 온도에 비례하고 전자 밀도에 반비례 함도 참고하세요. 한가지 더 생각해야 하는 길이 단위가 있는데, 이는 하전 입자와 여러 입자 간의 평균 충돌 거리입니다.
플라즈마는 시간에 따라서 정지하고 있지 않아요. 계속 흔들리고 있는데, 이는 전자와 이온으로 구성된 플라즈마의 특성에서 비롯됩니다. 즉 전자의 거동은 이온 보다 활발해서 그 거동의 차이는 하전 입자 사이에 시간에 따라 변하는 전기장이 만들어 질 겁니다. 이를 플라즈마 주파수라 합니다. 플라즈마 주파수는 플라즈마 밀도에 반비례 합니다.
따라서 Debye length 와 플라즈마 주파수를 곱하면 플라즈마가 가진 열평형상태의 전자의 열운동 속도를 예상할 수 있습니다. 즉 전자는 얼마의 속도로 날라 다니는가도 생각해 볼 수 있고, 전자들이 웨이퍼에 하전되는 양을 설명하는데 쓸 수 있습니다.
다음으로 Debye length 내에, 즉 이 길이를 가지는 부피 내에는 당연히 많은 하전입자, 전자와 이온들이 들어 있어야 합니다. 이 속에 있는 하전 입자들이 위와 같이 주파수를 가지고 움직이고 있어, 플라즈마를 하나의 dielectric 재료 즉 유전체 성질을 가진 재료로 가정할 수 있습니다.
이를 종합하면 플라즈마의 정의가 됩니다.,
1 quasi-neutrality 즉 전자와 이온의 밀도가 거의 같이 가스 상태로 존재하는 물질
2. Debye length 는 대상 공간 보다 크다, 즉 chamber size 또는 웨이퍼 크기, 따라서 패턴 크기가 Debye length 보다 작은 현재 pattern 내의 플라즈마 거동은 사실 플라즈마에서 주입된 이온 또는 전자의 거동으로 보는 것이 맞고요.
3. 플라즈마 주파수는 충돌 주파수, 즉 Debye 길이가 보존되는 상태가 플라즈마 상태이다. 충돌이 빈번하면 플라즈마의 고유 특성이 많이 아주 많이 훼손될 수 있음을 고려해야 한다는 의미가 됩니다.
플라즈마 정의 재미있지요?
Debye length 주제 역시 게시판에 여러번 설명했으니 참고하시면서 공부해 보세요. 이 문제 다음으로는 플라즈마 쉬스 주제를 공부하셔야 식각 플라즈마 할 수 있습니다. 알아가는 재미가 있는 플라즈마, 꾸준히 공부해 보세요.