OES Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다.

2020.09.11 17:48

박지태 조회 수:3322

안녕하세요.


우선 늘 성실하게 답변을 해주셔서 감사드립니다. 연구에 큰 도움이 되고 있습니다


Plasma Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 두껍게 증착시키고자 합니다.

실험의 목적은 Viewport Winodw에 증착된 Polymer가 유발하는 투과율의 변화를 OES를 통해 확인하는 것입니다.

가능한 한 두껍게 Polymer를 증착시키고 싶은데 Gas 및 Chamber 환경을 어떻게 조성해야 이런 환경을 만들 수 있을지 알려주신다면 감사하겠습니다!


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20175
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1405
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1222
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 445
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 812
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 880
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 815
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4920
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1239
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 687
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1442
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1056
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 593
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1008
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 592
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1513
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 878
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2049
쓰기
태그

Boards

XE Login