안녕하세요 

 

현재 기업에 다니고 있는 회사원입니다 

표면처리기술 과련 하여 공부하던 중 플라즈마 기술을 보고 문의드립니다 

 

1. water나 유기용매에 분산되어 있는 나노 입자에 플라즈마 처리 가능한가?

 

2. 30nm 이하의 분말형태의 시료에도 플라즈마 처리가 가능하가?

 

목표는 30nm 이하의 입자에 표면처리를 통해 특정 물성을 갖게 하는 것인데, 

입자 전체에 플라즈마 처리를 하고 싶은데 분말일때 플라즈마 처리가 고르게 이루어지지 않을 것 같아 

위와 같은 질문을 드립니다

 

 

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20179
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68697
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
669 플라즈마 관련 교육 [1] 1406
668 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1223
667 스퍼터링 Dep. 두께 감소 관련 문의사항 [1] 445
666 방전수 활성종 중 과산화수소 측정에 관련하여 질문드립니다. [1] 812
665 Dry Chamber VPP 변동 관련 질문입니다 [1] 881
664 RF 파워서플라이 매칭 문제 815
663 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4923
662 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1239
661 플라즈마 진단 공부중 질문 [1] 687
660 플라즈마 샘플 위치 헷갈림 [1] 604
659 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1442
658 플라즈마 세정처리한 PCB, Lead Frame 재활용 방법 [1] 484
657 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1056
656 Co-relation between RF Forward power and Vpp [1] 593
655 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1008
654 연속 Plasma시 예상되는 문제와 횟수를 제한할 경우의 판단 기준 [1] file 592
653 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1056
652 Matcher 구성에 따른 챔버 임피던스 영향에 대해 문의드립니다. [1] 1513
651 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 878
650 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2049

Boards


XE Login