안녕하세요~

Plasma로 Wafer에 위에 감광액의 Ashing하는 설비를 담당하는 구태영이라고 합니다.

현 장비는 M/W,RF와 O2,N2를 사용하여  Plasma를 생성하고 있습니다.

진공챔버 내에 Plasma 발생시 Wafer 주위에 분홍빛이 나며, 그 위에는 백색빛이 나면서 Plasma가 형성됩니다.

분홍빛은 Bias에 의한 Plasma 밀도랑 관련있다고 알고 있습니다.

여기서 제가 궁금한점 문의드리겠습니다.

1) 분홍빛이 띄는 곳이 Plama의 밀집 되어 있는 부분이 맞는가요?

2) 분홍빛과 백색빛의 차이를 알고 싶습니다.

3) Plasma에 의하여 Wafer에 Damage를 발생할 수 있는 부분을 알고 싶습니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
447 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1910
446 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1927
445 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1936
444 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1943
443 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1946
442 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1948
441 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1959
440 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1967
439 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1969
438 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1973
437 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1978
436 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1982
435 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1992
434 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1997
433 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 2002
432 chamber impedance [1] 2007
431 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2047
430 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2117
429 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2122
428 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2173

Boards


XE Login