안녕하세요. 카이스트에서 석사 1년차로 있는 대학원생입니다.

 

Single probe로 electron energy probability distribution을 구할 때, low energy electron은 bulk plasma에서 평형 상태에 도달한 전자들을 지칭하고 high energy electron은 cathode에서 방출되고 probe sheath를 통해 bulk plasma로 가속되는 전자들을 지칭하는 것으로 알고 있습니다.

 

이 두 그룹의 전자들을 구분할 수 있는 식이 따로 있는지 궁금합니다. 실험을 통해 얻은 EEPF에서 몇 eV부터 몇 eV까지는 low energy electrons이고 몇 eV부터 몇 eV까지는 high electrons이다 라는 형태의 답을 얻고 싶습니다.

 

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
443 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1920
442 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1925
441 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1944
440 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1947
439 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1947
438 LF Power에의한 Ion Bombardment [2] 1947
437 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1948
436 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1950
435 CVD (CCP) 공정의 Chamber seasoning과 플라즈마 밀도 [1] 1950
434 ESC 표면 온도랑 식각률의 차이가 어떤 관계로 있는걸까요?? [1] 1950
433 플라즈마 에칭 과 표면처리 의 차이점 질문드립니다. [1] 1961
432 chamber impedance [1] 2003
431 doping type에 따른 ER 차이 [1] 2038
430 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 2089
429 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2092
428 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 2117
427 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2164
426 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2177
425 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 2203
424 플라즈마볼 제작시 [1] file 2214

Boards


XE Login