안녕하세요, 교수님.

현재 반도체 업체에서 근무중인 엔지니어입니다.

현재 Clean 조건은 High pressure 및 Low pressure Clean을 사용하고 있습니다.

혹시 High Pressure Clean 진행 간 Showerhead와 Heater간 간격이 조금 더 넓어지면 Clean 효율에 문제가 있을까요?
 Ex) 10mm → 13mm

 

 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [311] 79053
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21203
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58021
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69568
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94293
802 RF magnetron Sputtering 공정에서의 질문 [Lorentz force와 ExB drift 이해] [1] 178
801 DBD 플라즈마 작동 시 유전체에 가해지는 데미지 [상압플라즈마 소스] [1] 185
800 가스 조성 및 온도에 따른 식각률 관련 질문입니다. [Arrhenius equation 이해] [1] 188
799 인가전압과 ESC의 관계 질문 [Floating sheath] [1] 190
798 RF플라즈마에서 quasineutral에 대해 궁금한게 있어 질문글 올립니다.[quasineutral] [1] file 191
797 Debey Length에 대해 문의 드립니다. [플라즈마 정의와 Deybe length] [1] 194
796 Lxcat dataset에 따른 Plasma discharge에 대한 질문입니다. [CX 데이터] [1] 195
795 반사파에 의한 micro arc 질문 [VHF 전력 인가] [2] 195
» Showerhead와 Heater간 간격에 따른 RPC 효율성 [Pachen's law 이해] [1] 195
793 Dielectric Etcher(CCP)에서 사용하는 주파수 [Plasma frequency 및 RF sheath] [2] 199
792 챔버 내 전자&이온의 에너지 손실에 대해 [에너지 균형과 입자 균형식] [1] 202
791 corona model에 대한 질문입니다. [준중성과 저압플라즈마] [1] 203
790 RF generator의 AMP 종류 질문입니다. [RF Power] [1] 203
789 진공 챔버에서 Plasma Off시 Particle의 wafer 표면 충돌 속도 [Sheath energy] [1] 208
788 플라즈마 사이즈 측정 방법 [플라즈마 분포 측정 및 산포 평가] [1] 208
787 CCP Chamber 사용 중 Impedance 변화 원인 문의드립니다. [Chamber impedance 변화] [1] 215
786 실리콘 수지 코팅 Tool에 Plasma 클리닝 시 코팅 제거 유/무 [대기압 플라즈마, highly collisional plasma] [1] 219
785 ICP dry etch 시 공정 문의 사항. [1] 222
784 화장품 원료의 플라즈마 처리 문의 [환경 플라즈마] [1] file 225
783 CVD 박막 Clean 중 Ar에 의한 Etch 여부가 궁금합니다. [Ar plasma chemical etching] [1] 226

Boards


XE Login