안녕하세요

서울대학교 플라즈마 표면공학연구실의 김태윤 연구원입니다.

다름이 아니라, 저희 실험실에서는 내부 삽입형 ICP plasma 를 이용하여

증착을 하고 있는데요.

ICP를(0W) 켜지 않고 Target 에만 power를 인가한 상태에서,

기판에 바이어스를 주었을 때 흐르는 전류(0.9A)와

같은 상황에서 ICP 를  켜게 되면(2000W) 전류가 (3A) 흐르게 됩니다.

기판에 흐르는 전류의 증가분을 가지고 플라즈마 밀도가 ?% 증가하였다는 결론을 내고 싶습니다.

저희가 사용한 이론은 Child 쉬스의 이온 전류식으로, 플라즈마의 밀도가 ICP를 켜면

3배 정도 상승한다는 결론을 얻었는데요.

이 이론이 기판에 바이어스가 가해진 상황에서는 성립하지 않는다고 합니다.

혹시 다른 계산 방법이나 이론이 있는지, 계산은 어떻게 되는지 답변 부탁드립니다.


그리고 ICP power density 계산에 대하여, 저희 실험실에서는 단순히 가해준 ICP POWER 를 ICP

코일의 단면적으로 나누었었는데, 이에 대해서도 정확한 ICP의 power density를 구하는 방법이 있는지도

문의 드립니다.



감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [113] 4973
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16325
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51258
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63783
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 83590
620 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 419
619 Interlock 화면.mag overtemp의 의미 421
618 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 421
617 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 426
616 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 427
615 프리쉬스에 관한 질문입니다. [1] 428
614 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 437
613 analog tuner관련해서 질문드립니다. [1] 438
612 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 438
611 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 439
610 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 440
609 Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] 443
608 활성이온 측정 방법 [1] 447
607 RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] 448
606 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 448
605 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 454
604 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] file 455
603 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 455
602 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 455
601 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 462

Boards


XE Login