안녕하세요 고려대학교 가속기과학과 김지수 학생입니다.

 

ECR ion source를 연구중인데 ECR chamber에 GAS를 주입하고 RF를 인가중 플라즈마가 켜지게 되면

 

RF Reflect가 엄청 많아집니다. RF 주파수를 위아래로 조절해 보아도 Rflect가 기본 base line처럼 깔려서 낮아지질 않네요

 

Plasma상태에 따라서 RF reflect가 많이 달라질까요? 달라진다면 어떤 plasma 상태를 만들어야 될까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5590
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16863
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51344
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64197
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84173
611 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 481
610 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 482
609 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 486
608 조선업에서 철재절단용으로 사용하는 가스 프라즈마에 대한 질문 [1] 488
607 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 491
606 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 503
605 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 506
604 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 508
603 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 508
602 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 509
601 CCP에서 접지된 전극에 기판을 놓았을 때 반응 [1] 509
600 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 510
599 anode sheath 질문드립니다. [1] 510
598 RF 전류가 흐르는 Shower head를 TC로 온도 측정 할 때 [1] 519
597 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 521
596 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 531
595 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 541
594 MFP와 Sheath 관련하여 추가 질문 드립니다. [1] 547
593 IMPEDANCE MATCHING PATH에서 S/H ~ MATCHER 간 전력전송 방법들에 대해 문의드립니다. [2] 549
592 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 552

Boards


XE Login