안녕하세요 박사님. 플라즈마 장비를 다루는 반도체 장비 회사에 다니는 연구원입니다.

항상 좋은 글 잘 보고 있습니다.

 

다름이 아니라 저희가 현재 유입하는 Gas의 유량을 조절하여 이것이 공정에 어떤 영향을 끼치는지 분석하고 있습니다.

 

저희가 펌프의 Valve를 고정해놓고 실험을 했기 때문에 유입시키는 Gas 양을 줄이면서 자연스럽게 Pressure 또한 줄어 들었는데,

이 때 Gas의 Residence Time 이 어떻게 변하는지 궁금합니다.

 

같은 양의 Gas라고 하더라도 Residence time에 따라 공정 결과 값이 바뀔 것 같은데 

이 Residence time은 어떻게 구할 수 있을까요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [160] 73071
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17638
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 55521
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 65719
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 86083
627 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 512
626 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 519
625 RF 파워서플라이 매칭 문제 519
624 라디컬의 재결합 방지 [1] 529
623 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 531
622 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 536
621 안녕하세요. Plasma etch rate에 관하여 질문이 있습니다. [1] 538
620 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 540
619 Plasma Arching [1] 541
618 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 544
617 ICP Dry Etch 진행시 정전기 발생에 관한 질문입니다. [1] 544
616 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 546
615 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 550
614 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 553
613 플라즈마 용어 질문드립니다 [1] 553
612 안녕하세요. 플라즈마 기체분자종에 따른 기판charing정도차이 문의 [1] 584
611 플라즈마 세정 장비 (CCP구조)에서 자재 로딩 수에 따른 플라즈마 효과 및 Discolor [1] file 587
610 플라즈마 이용 metal residue 제거방법 문의드립니다. [1] 588
609 RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] 595
608 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 600

Boards


XE Login