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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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고전압 방전 전기장 내 측정
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ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다.
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516 |
플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서)
[1] | 919 |
515 |
PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다!
[1] | 920 |
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연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생
[1] | 924 |
513 |
Plasma etch관련 질문이 드립니다.
[1] | 924 |
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[질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문
[2] | 926 |
511 |
low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜.
[1] | 926 |
510 |
RF 전압과 압력의 영향?
[1] | 934 |
509 |
Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
[1] | 938 |
508 |
부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다.
[1] | 946 |
507 |
LF Power에의한 Ion Bombardment
[2] | 962 |
506 |
플라즈마 코팅
[1] | 967 |
505 |
Group Delay 문의드립니다.
[1] | 976 |
504 |
PECVD와 RIE의 경계에 대해
[1] | 976 |
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매칭시 Shunt와 Series 값
[1] | 983 |
502 |
glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다.
[2] | 993 |
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챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화
[1] | 996 |
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쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다.
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Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여
[1] | 1004 |