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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64491
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518 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 905
517 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 913
516 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 919
515 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 920
514 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 924
513 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 924
512 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 926
511 low pressure 영역에서 아킹이 더 쉽게 발생하는 이유에 관해 문의드립니댜. [1] 926
510 RF 전압과 압력의 영향? [1] 934
509 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 938
508 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 946
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503 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 983
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501 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 996
500 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1002
499 Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] 1004
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