Etch Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다.
2020.06.12 10:42
안녕하십니까 RF Power 공급 업체에 다니고 있는 직장인 입니다.
한가지 궁금한 점이 있어서 질문 올립니다.
현재 장비사에서 다른 Power 업체에서 사용하던 것을 저희 업체로 변경 하여 사용했는데
공정 결과 ER이 20% 낮게 나왔다고 합니다.
공정 시 같은 Power, 같은 ICP설비 안테나로 진행 하였으며 RF Matcher와 RF Generator의 Maker만 바뀐 상황입니다.
이와 관련하여 혹시 Matcher가 ER을 낮게 할 수 있는 원인이 될 수 있는지 여부가 궁금합니다.
혹시 관련된 자료 있으면 링크좀 부탁드리겠습니다.
감사합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] | 76677 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20152 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57151 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68673 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92186 |
587 | Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] | 970 |
586 | Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] | 977 |
585 | anode sheath 질문드립니다. [1] | 979 |
584 | CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] | 991 |
583 | 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] | 993 |
582 | Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] | 999 |
581 | RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] | 1003 |
580 | 고진공 만드는방법. [1] | 1006 |
579 | 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] | 1011 |
578 | langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] | 1012 |
577 | DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] | 1020 |
576 | Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] | 1028 |
575 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1029 |
574 | DC Plasma 전자 방출 메커니즘 | 1036 |
573 | 플라즈마 코팅 [1] | 1036 |
572 | Plasma Arching [1] | 1039 |
571 | 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ | 1045 |
570 | Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] | 1046 |
569 | etch defect 관련 질문드립니다 [1] | 1047 |
568 | HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] | 1052 |