OES 자료 요청드립니다.

2014.06.12 01:00

ringring 조회 수:6259

안녕하세요?

삼성반도체에서 식각 공정 OES 평가 업무를 하고 있습니다.

진공학회에서 OES자료를 찾다가  필요한 부분이 있어 자료 요청드립니다.

제목 : 광진단을 통한 플라즈마 공정 상태 변동 메커니즘 분석  


진공학회 및 DB PIA에서는 1page만 있어  Full ver.이  필요합니다.

참고로 구매를 했는데도 1page만 보이고 있어 메일로 요청드립니다.


이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79238
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21259
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58062
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69620
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94407
343 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [Sputtering 및 particle issue] [1] 4289
342 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [플라즈마 유전상수] [1] 4460
341 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [충돌 반응 rate constant] [4] 4460
340 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4491
339 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [장치 구조에 따른 공간 분포] [2] 4492
338 플라즈마 색 관찰 [플라즈마 빛과 OES신호] [1] 4544
337 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 4931
336 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [자유행정거리, Child law sheath] [1] 5025
335 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [RF 전력 전달] [1] 5285
334 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [Child-Langmuir sheath 및 Debye length] [1] 5386
333 DRAM과 NAND 에칭 공정의 차이 ["플라즈마 식각 기술"] [1] 5654
332 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [반응성 기체 생성] [1] 5698
331 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [ESC, 쉬스 전기장 및 bias 전력 조절] [1] 5796
330 RF Vpp관련하여 문의드립니다. [Self bias와 플라즈마 쉬스] [1] 5873
329 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5973
328 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [Electron Temperature와 Excitation Temperature] [1] 6029
327 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다.[CCP와 Vdc, Vpp] [1] file 6107
326 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [VI probe] [3] 6120
325 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6234
» 자료 요청드립니다. [1] 6259
쓰기
태그

Boards

XE Login